半导体 / 微电子（核心）

1/4" 使用点（POU）稳压：晶圆厂设备端、工艺支线高纯 N₂/Ar/He/H₂小流量精密稳压，适配刻蚀、沉积、扩散等制程。

气体柜/ 阀箱（VMB）：高压特种气（如 SiH₄、NH₃）前置减压，241 bar 高压入口直减至 17.2 bar 以内，金属密封防泄漏、保纯度。

高纯 / 超高纯气路：符合 SEMI F19，10 Ra 镜面光洁度 + 电子级清洗，低颗粒、低析出，保障芯片良率。

实验室 / 研发

分析仪器供气：GC、MS、AAS 等高纯载气 / 燃料气稳压，小流量稳定、压力可控。

高压气瓶直供：200/241 bar 高压气瓶直接减压至低压，简化气路、减少污染风险。

工业高纯 / 腐蚀性气体

光伏 / LED 工艺气：高纯反应气、载气小流量精密稳压，适配薄膜制程。

化工 / 制药高纯介质：腐蚀性气体（如 HCl、Cl₂）、无菌高纯气，316L VAR / 哈氏合金内件耐腐蚀、易清洁。