半导体与超高纯气体

• 特种气体输送：SiH₄、NH₃、HCl、Cl₂等高纯 / 腐蚀 / 自燃气体减压，金属密封防污染、无泄漏

• 气体分配面板：工艺气体末端稳压，低内体积（3.03 cc）减少气体滞留，保证纯度。

• 晶圆制程：CVD、刻蚀、扩散工艺精密压力控制，真空至低压稳定（50 mmHg 绝压～6.9 bar）

分析仪器与实验室

• 气相色谱（GC）：载气（N₂、Ar、He）稳压，低流量稳定、无压力漂移，适配色谱采样系统

• 质谱 / 光谱仪：高纯气体精密调压，金属膜片无橡胶析出，避免污染分析结果

• 实验室反应釜：小流量高压气体（≤241 bar）减压至低压，安全可控

工业特种气体与钢瓶

• 低蒸汽压烃类：丁烷、戊烷等易液化气体稳压，绝压控制防止汽化不稳定

• 气瓶末端减压：高压钢瓶（≤241 bar）直接减压至低压，单级结构简化系统、降低成本

• 腐蚀性气体系统：氯气、氯化氢等湿腐蚀气体输送，316 不锈钢 + PTFE 阀座耐腐

真空与低压精密控制

• 真空至低压调节：50 mmHg 绝压（≈67 mbar）~6.9 bar宽范围，适配真空系统、低压测试。

• 面板安装设备：分析柜、控制盘嵌入式安装，节省空间、便于操作。