实验室与分析仪器（核心）

• 高纯载气：GC、GC-MS、ICP-MS、ECD 等6.0 级（99.9999%）N₂、Ar、He、H₂稳压，适配痕量 / 超痕量分析。

• 单点用气终端：实验室集中供气末端、单台仪器专用减压，40 bar 管路压降至 1.5/4/10 bar 工作压。

• 研发小流量反应气：微量催化、材料生长、混合气配比，无析出、无交叉污染。

半导体 / 微电子（UHP 场景）

• 晶圆制程：扩散、刻蚀、沉积工艺高纯特种气（SiH₄、NH₃、HCl）终端稳压。

• 洁净室用气点：UHP 气体分配系统末端，符合 SEMI F19，低微粒、低泄漏。

制药 / 生物 / 精细化工

• 无菌工艺气：发酵、冻干、包装高纯 N₂、CO₂，无油无尘、符合 GMP。

• 高纯度化学品保护：惰性气体覆盖、微量腐蚀气（Cl₂、HF）输送，耐腐材质 + 金属密封。

通用高纯 / 特种气体

• 非腐蚀 / 轻度腐蚀气：Ar、N₂、He、H₂、NH₃、SO₂等，纯度最高 6.0 级。

• 气瓶 / 汇流排末端：40 bar 高压气源二级精调，稳定出口压力、减少波动。