半导体 / 微电子（核心）

• 大宗特种气体系统（BSGS）：SiH₄、NF₃、Cl₂、NH₃等高纯 / 腐蚀性气体稳压。

• 用气点（POU）：光刻、刻蚀、沉积设备终端精密调压，CDA、氩气、氮气大流量稳定供给。

实验室与分析仪器

• 气相色谱（GC）、质谱（MS）、ECD：高纯载气（N₂、Ar、He、H₂）零污染稳压。

• 中央供气系统：实验室集中高纯气分配，VCR 金属密封、低泄漏、快吹扫。

 制药 / 生物医疗

• 无菌工艺气体：发酵、冻干、灌装高纯 N₂/CO₂/O₂，符合 USP Class VI、BPE 标准。

• 医用气体：氧气、一氧化二氮高纯供给 + 安全泄压。

特种与腐蚀性气体

• 腐蚀性介质：HCl、HBr、Cl₂、NH₃，Hastelloy/Elgiloy 膜片 + 316L VAR 阀体。

• 易燃 / 有毒气体：H₂、CH₄、SiH₄，氦检漏＜1×10⁻⁸ mbar・L/s、气泡级内漏。

食品 / 饮料与光伏

• 食品充气 / 保鲜：高纯 CO₂、N₂，无油无颗粒、符合食品级。

• 光伏硅片制程：高纯氩气、氢气大流量稳压，适配扩散 / 沉积工序。